

1. Được thiết kế để khắc ID trên wafer bán dẫn, tương thích với wafer 6 inch và 8 inch
2. Phù hợp với các vật liệu wafer phổ biến: Si, GaAs, SiC
3. Vận hành hoàn toàn tự động, trang bị mô-đun lọc FFU
4. Trang bị robot hai tay; tùy chọn mô-đun cấp liệu SMIF
5. Tuân thủ tiêu chuẩn SEMI, hỗ trợ giao thức truyền thông SECS/GEM
Chủ yếu dùng để khắc ID trên wafer 12 inch trở xuống làm từ Si, GaAs, SiC, EMC, lớp chống hàn và các vật liệu khác.