Laser nano giây UV tích hợp hệ quang học và hệ thống điều khiển

Đặc điểm máy

1. Tần số lặp lại có thể điều chỉnh, điều chỉnh liên tục trong phạm vi 20 kHz-200 kHz

2. Thiết kế tích hợp hệ quang học và hệ thống điều khiển

3. Đầu ra ở mode TEM00


Lĩnh vực ứng dụng

1. Khắc logo trên vỏ sản phẩm điện tử cao cấp

2. Khắc laser trên bao bì thực phẩm, ống PVC, bao bì dược phẩm, cáp và dây điện (HDPE, PO, PP, v.v.)

3. Khắc mã QR trên PCB và FPC

4. Loại bỏ lớp phủ trên vật liệu kim loại và phi kim

5. Khắc laser trên aptomat không khí và linh kiện điện hạ áp (vật liệu chống cháy)

Hiệu ứng xử lý

Mẫu máy

Laser nano giây UV   tích hợp hệ quang học và hệ thống điều khiển Model 1

Laser nano giây UV   tích hợp hệ quang học và hệ thống điều khiển Model 2

Bước   sóng laser

355 nm

Tần số lặp lại

20-200 kHz

Công suất

3 W @ 30 kHz, Điển   hình

5 W @ 30 kHz, Điển   hình

Độ rộng xung

<25 ns @ 30 kHz

Độ ổn định xung

<3% rms @ 30 kHz,   Điển hình

Mode không gian

TEM00

M²

<1,2

Độ phân cực

100:1 Ngang

Đường kính chùm tia

1,1 mm ±0,1 mm

Góc phân kỳ toàn phần

<2 mrad

Độ đối xứng chùm tia

>90%

Độ ổn định hướng chùm   tia

<±25 µrad/℃

Yêu cầu nguồn điện

12 VDC ± 1 V; ≥200 W   Nguồn điện chuyển mạch

Thời gian sẵn sàng

Thời gian sẵn sàng từ   trạng thái chờ: <10 min
  Thời gian sẵn sàng từ khởi động nguội: <30 min

Dải nhiệt độ

Dải nhiệt độ vận hành:   18 ℃~35 ℃;
  Dải nhiệt độ bảo quản: 0 ℃~50 ℃

Dải độ ẩm

10-90%, không ngưng tụ

Yêu cầu làm mát

Làm mát bằng nước; độ   chính xác nhiệt độ bộ làm lạnh ±0,1 ℃, lưu lượng tối thiểu 4 L/min

Tổng công suất tỏa nhiệt

<200 W

Kích thước đầu laser   (L × W × H)

370 mm × 165 mm × 136   mm

Khối lượng đầu laser

10 kg



Top