Trung tâm sản phẩm Laser Laser femto giây và laser dưới nano giây
NPFL-50G-1.0

Laser dưới nano giây xanh lục

NPFL-50G-1.0

Đặc điểm máy

1. Thiết kế quang học toàn sợi, xung dưới nano giây

2. Năng lượng xung và công suất đỉnh cao

3. Tần số lặp lại có thể điều chỉnh

4. Chất lượng chùm tia gần giới hạn nhiễu xạ

5. Kết cấu nhỏ gọn, chiếm ít không gian


Lĩnh vực ứng dụng

Laser này sử dụng thiết kế quang học toàn sợi và cung cấp đầu ra laser dưới nano giây với chất lượng chùm tia gần giới hạn nhiễu xạ và độ ổn định vượt trội. Laser có thể được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực, bao gồm bán dẫn, quang điện và năng lượng mới. Laser được sử dụng rộng rãi cho:

Cắt, khoan và khía rãnh kính, silicon và gốm

Tạo cấu trúc màng mỏng cho kim loại và màng mỏng

Khắc laser trên kính, silicon, gốm, kim loại và nhựa


Hiệu ứng xử lý

Mẫu máy

Laser dưới nano giây   xanh lục NPFL-50G-1.0

Chế độ vận hành

Xung

Công   suất trung bình (W)

50

Bước sóng trung tâm   (nm)

532

Độ rộng vạch (nm)

<10; độ rộng vạch 3   dB

Tần số lặp lại (kHz)

1500-2200; Có thể điều   chỉnh

Độ rộng xung (ns)

0,6-4 ns; Có thể điều   chỉnh

Dải điều chỉnh công suất   (%)

0-100

Thời gian đáp ứng (μs)

<5

Chất lượng chùm tia   (M²)

≤1,1

Độ ổn định công suất   (%)

≤5%; 24 h

Kích thước điểm (mm)

1,2±0,3; 1/e2

Độ elip của điểm (%)

>90; Điển hình 95%

Độ lệch chùm tia (mm)

<2,0

Độ phân kỳ chùm tia   (mrad)

<0,5


Sản phẩm đề xuất

HPF-50-IR

NPFL-80IR-1.01

Femto-10
Liên hệ
Liên hệ
Hotline
Hotline bán hàng
+86-400-666-4000
Top