Lĩnh vực ứng dụng Ngành công nghiệp màn hình và bán dẫn

Compact Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

Đặc điểm máy

1. Compact footprint and excellent stability

2. Easy operation and maintenance


Lĩnh vực ứng dụng

Photoresist coating and developing for Compound Semiconductors, Power Devices, MEMS, RF ICs, LEDs, Scientific‑research Projects and Optical Components.


Ngành công nghiệp tấm nền OLED và LCD
Technical Data Sheet

Machine   Model

Compact   Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

Cassette

2CS

wafer Type

Round   Wafers

wafer Size（mm）

50-150

Throughput（WPH）

50

Substrate   Materials

Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4

Processes

g-line、i- line、PI


Liên hệ
Liên hệ
Hotline
Hotline bán hàng
+86-400-666-4000
Top